熱臺偏光顯微鏡（高分子材料）

簡要描述：熱臺偏光顯微鏡熱臺,高溫熱臺,顯微鏡熱臺,偏光熔點儀,XPR-500型透射偏光熔點測定儀（熱臺）是地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化學纖維、半導體工業(yè)以及藥品檢驗等部門和相關高等院校的高分子...等專業(yè)Z常用的專業(yè)實驗儀器?？晒V大用戶作單偏光觀察，正交偏光觀察，錐光觀察以及顯微攝影，來觀察物體在加熱狀態(tài)下的形變、色變及物體的三態(tài)轉化。

產(chǎn)品型號：XPR-500C
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2025-05-21
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偏光顯微鏡熱臺

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詳細介紹

品牌	CAIKON/蔡康光學	價格區(qū)間	面議
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應用領域	化工,地礦,制藥/生物制藥

偏光顯微鏡（熱臺）：XPR-500C

熱臺偏光顯微鏡熱臺,高溫熱臺,顯微鏡熱臺,偏光熔點儀

一、儀器的主要用途和特點
XPR-500型透射偏光顯微鏡（熱臺）是地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化學纖維、半導體工業(yè)以及藥品檢驗等部門和相關高等院校的高分子...等專業(yè)zui常用的專業(yè)實驗儀器?？晒V大用戶作單偏光觀察，正交偏光觀察，錐光觀察以及顯微攝影，來觀察物體在加熱狀態(tài)下的形變、色變及物體的三態(tài)轉化。
本系統(tǒng)廣泛應用于高分子材料、聚合物材料等化工領域，適用于研究物體的結晶相態(tài)分析、共混相態(tài)分布、粒子分散性及尺寸測量、結晶動力學的過程記錄分析、液晶分析、織態(tài)結構分析、熔解狀態(tài)記錄觀察分析等總多研究方向。
偏光顯微熔點測定儀XPR-500系統(tǒng)匯集了光電、模式識別、精密加工、圖象學、自動控制、模量學等總多研究領域的當前技術，多年研究開發(fā)的結果，在國內(nèi)享有.本儀器的具有可擴展性，可以接計算機和數(shù)碼相機。對圖片進行保存、編輯和打印。

二、儀器的主要技術指標

1.顯微鏡技術參數(shù):

名稱	規(guī) 格
總放大倍數(shù)：	40X---630X
無應力消色差物鏡	4X/0.1
	10X/0.25
	25X/0.40
	40X/0.65
	63X/0.85
目鏡	WF10X/18mm
	10X網(wǎng)格目鏡
	10X刻度目鏡
	10X分劃目鏡
試片	石膏1λ試片
	云母1/4λ試片
	石英楔子試片
測微尺	0.01mm
濾色片	藍色
聚光鏡	N.A.1.25帶可變光欄搖擺式聚光鏡
集光鏡	高亮度固定式照明
載物臺	360度旋轉，直徑160mm
移動尺	移動范圍30mm×40mm
鏡筒	45度平拉式三目觀察（52mm-74mm）
光源	鹵素燈（6V/30W.AC 85V-230V）亮度可調(diào)

2.熔點儀技術參數(shù):

熱臺組成	性能
顯微精密控溫儀	在 20倍物鏡下工作溫度可達到zui高300 ℃ 、溫度運行程序全自動控制；溫度程序段由用戶自行設定， 30段溫度編程，循環(huán)操作，能準確反映設定溫度、爐芯溫度、樣品的實際溫度。每段設定起始溫度，及在該段內(nèi)可維持時間，升溫速率可調(diào)、精度 ± 0.3 ℃、記憶點讀數(shù)
顯微加熱平臺	可以隨載物臺移動、工作區(qū)加熱面積大、透光區(qū)域可調(diào)、工作區(qū)溫度梯度低于± 0.1 • 起始溫度室溫 • 工作區(qū)加熱使用面積至少 1X1厘米 • 工作區(qū)溫度梯度不超過 ± 0.1 • 透光區(qū)域 2mm以上，可調(diào) • 顯示溫度與實際溫度誤差不超過 ± 0.2 • 熱臺可以隨載物臺移動在加熱狀態(tài)下zui高可使用 20倍物鏡
注意：熔點測定（溫度超過100度時，25X的物鏡工作距離太近，容易損壞鏡頭，請選用長工作距離的物鏡25X、40X的物鏡）

三、系統(tǒng)數(shù)字性

XPR-500C型偏光熔點儀系統(tǒng)是將精銳的光學顯微鏡技術、*光電轉換技術、*的計算機成像技術和精密的溫控技術*地結合在一起而開發(fā)研制成功的一項高科技產(chǎn)品?？梢栽谟嬎銠C上很方便地觀察不同溫度下的偏光效果圖像，并對偏光圖譜進行分析,處理,還可輸出或打印偏光圖片。

四、系統(tǒng)組成

1、偏光顯微鏡XP-500　　　　　　　　　
2、電腦適配鏡
3、彩色攝像器機
4、A/D轉換器（圖形采集設備）
5、熱臺
6、計算機（選購）

五、選購部分

1.偏光分析軟件

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熱臺使用說明

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